广州某半导体设备基带芯片手工生产厂家，晶圆制作加工阶段中引起含硅、氟的非常规废水工作加工工作，设计的加工工作企业规模1200吨/日。废水工作加工工作物质错综复杂，含带奈米级硅颗粒物及盐酸，传统型加工工作具体方法难达到。 生活污水组成及种类 基本污染源物 ：电解质溶液硅（100-500nm比表面积）、氟铝离子（200-300mg/L）、异丙醇 由来多种工序 ：晶圆刻蚀电镀废渣（45%）、CMP化学工业厂家增加光泽电镀废渣（40%）、机器设备洗水（15%） 补救工艺设备的流程 特色化进行"化学上沉淀自己+机械膜溶合"能力行车路线： 钙盐悠长岁月中 ：污泥脱水氯化钙我们要除氟亚铁离子（合成CaF2放置） 斜管沉淀池生理反应 ：复合型水解酸化池剂实行悬浊液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm孔经膜挪用微细粒状 ro反渗透性和机系统 ：脱盐率>98%，回收分类处理率75% 蒸馏沉淀 ：浓水段满足氟化物零尾气排放 既定的效果 氟化物浓度值：<8mg/L（如果低于欧洲国家4级原则10mg/L） 硅纯度：<5mg/L 水能源中水回用率：70%用到冷水塔塔皮肤补水 危废处理减量化：蒸馏残留量较传统的生产技术减掉60%